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国产光刻胶，尤其是高端光刻胶领域的发展一直喜忧参半。面对日本等国家在高端光刻胶领域的绝对优势，国产光刻胶自给率仅有1%左右。然而，近日南大光电宣布成功研发国产ArF光刻胶，覆盖28nm至90nm的制程，这标志着国产光刻胶自给率突破了1%的重要里程碑。

然而，令人费解的是，尽管国产ArF光刻胶取得了初步成果，但国产EUV光刻机依然处于空白状态。这让人不禁产生疑问：难道国产光刻胶的进展只是虚有其表吗？

事实上，两者之间并不存在冲突。首先，ArF光刻胶仅仅是光刻胶中的一种类型，覆盖范围为28nm至90nm，而EUV光刻胶则用于更高精度的7nm光刻工艺。其次，南大光电研发的ArF光刻胶尚处于实验阶段，距离实际应用和量产仍有相当的差距。再者，国产光刻胶目前尚无法满足高端光刻机对材料的严格要求。最后，光刻机的研发涉及成千上万个零部件，仅凭光刻胶这一项技术的突破是远远不够的，需要光刻胶等众多技术的整体突破。

综上所述，南大光电的ArF光刻胶技术进展虽然标志着国产光刻胶自给率突破1%的里程碑，但离真正成为国产光刻机的决定性技术还有很长的路要走。

高科技产品的研发需要各种技术的突破和融合，不能仅依靠单一技术的进步。每当国产光刻胶取得某项进展时，网友们总是忍不住热情赞扬。然而，相较于过分的热情，保持理性的分析和支持对国产芯片光刻机研发的成功更为有益。

我们应该关注国产芯片光刻机领域的各项技术进展，鼓励创新，助力整个产业链的发展。只有在各项技术不断突破、整体实力不断提升的基础上，国产光刻机才能迈出坚实的步伐，为中国的芯片产业发展贡献力量。让我们一起为国产芯片光刻机的研发加油，期待更多的突破和成功！